GeminiSEM 560 场发射扫描电子显微镜（FE-SEM）

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FE-SEM满足亚纳米成像、分析和样品灵活性的高要求

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蔡司GeminiSEM可助您轻松实现亚纳米级分辨率的成像。出色的成像和分析技术更使FE-SEM（场发射扫描电子显微镜）如虎添翼。采用创新的电子光学系统和全新样品仓设计，不仅操作更加简便，用途更加灵活多样，还可为您带来更高的图像质量。无需水浸物镜即可拍摄低于1 kV的亚纳米级图像。

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Gemini电子光学系统的三种设计：

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●　GeminiSEM 360 — 分析测试平台的理想选择

●　GeminiSEM 460 — 实现高效分析

●　GeminiSEM 560 — 表面成像的新标准

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GeminiSEM 560

探索表面成像新标准：Gemini 3镜筒搭载全新的电子光学引擎Smart Autopilot，使样品能够在低于1 kV、分辨率低于1 nm的条件下进行无漏磁成像，且无需样品台偏压或单色器，可在您的工作条件下达到理想效果。

 

轻松实现1 kV以下成像

★　Gemini 3镜筒在低于1 kV、分辨率低于1 nm的条件下进行无漏磁成像，且无需样品台偏压或单色器。其包含Nano-twin物镜和全新的电子光学引擎Smart Autopilot。

★　采用全新可变压力模式和探测系统可获得非导电物质的图像：在VP模式下，通过低光毒性样品交换舱后，将真空敏感样品放入样品仓，可确保在保留特征的同时快速获得结果。

★　利用带双EDS端口的全新大样品仓轻松分析精细样品。出色的探测器立体角确保您获得快速、无阴影的成像。

 

整合专业知识

★　该系统的观察视野大大增加，从而可以轻松进行简便的样品导航。

★　对于要求极为严苛的样品，全新的电子光学引擎Smart Autopilot大幅提升了成像速度。其可以节省时间，让您无需进行耗时的对焦：此款引擎能够驱动电子光学系统，放大倍率范围从小于1倍到高达500,000倍，可全程进行自动对中、校准和聚焦。获得专利的全新视差自动聚焦也包含在内，全新的自动摆动功能为您在数秒之内提供清晰图像。

★　Python脚本可在三维STEM断层扫描成像等自动化工作流中使用这些功能。

体验出色的衬度

★　在您设置的工作前提下找到最有效点意味着您已经选择了正确的参数组合，而实现理想图像的诀窍则是找到该参数组合。Gemini无漏磁技术及其全新的Gemini 3镜筒可为您呈现理想的参数组合，助您探索新信息。 ★　样品上的磁场小于2 mT，能轻松实现磁畴衬度成像。采用可进行能量选择的Inlens背散射探测器可执行能量光谱成像，采用环形背散射探测器可执行电子环形光谱成像。 ★　使用ZEN Connect将所有数据汇集在一起，细分并报告您的发现。

 

Gemini电子光学系统背后的科技

●　Gemini 1

基本原理简介

FE-SEM专为高分辨率成像设计，性能的一个关键是其电子光学镜筒。Gemini是为实现任何样品的出色分辨率而特别设计的（尤其在低加速电压下），可实现完整高效的探测，且操作简单。

Gemini电子光学系统有以下三个主要特征：

✔ Gemini物镜的设计结合了静电场与电磁场，在大幅提升光学性能的同时大大降低了对样品的影响。如此也可实现对磁性材料等具有挑战性的样品的高品质成像。 ✔ Gemini电子束推进器技术是一种集成光束减速器，确保了小尺寸的电子束斑和高信噪比。 ✔ Gemini Inlens的探测设计原理通过同时探测二次电子（SE）和背散射电子（BSE），大幅缩短到图像的时间，确保了高效的信号探测。

针对您的应用，可以有以下优势：

✔ SEM电子束对准可长期保持稳定，改变探针电流和加速电压对系统几乎没有影响。 ✔ 几乎无磁场泄露的光学系统可实现无失真高分辨率成像。 ✔ 使用Inlens SE探测器，可通过真正的表面敏感性SE 1电子技术生成图像，从而只获得样品最顶层的信息。 ✔ 使用Inlens EsB探测器的探测设计理念，在非常低的电压下获得真实的材料成分衬度。    

●　Gemini 2

充分利用快速分析

任何样品的全面表征都需要高性能的成像和分析，另外，如今的用户都希望设备易于设置和操作。Gemini 2光学系统能满足这些需求。

高分辨率成像与分析可无缝切换

✔ GeminiSEM 460配备具有双聚光镜的Gemini 2光学系统。 ✔ 连续调整电子束的电流强度，同时优化束斑大小。 ✔ 可在低束流的高分辨率成像与高束流的分析模式之间进行无缝切换。 ✔ 在更改成像参数后无需进行校准，省时省力。

保持灵活，高效工作

✔ 保持灵活：使用高电子束能量密度在低束流和高束流下进行高分辨率成像和分析，不受您选择的电子束能量影响。 ✔ 样品不会暴露于磁场中：实现了大观察视野内的无失真EBSD图案和高分辨率成像。 ✔ 样品倾斜转动时不影响电子光学系统的性能，磁性样品也能轻松成像。 ✔ 选择适合样品的消荷电模式：局部电荷补偿、腔室内可变压力或NanoVP。  

●　Gemini 3

在低于1 kV条件下成像——整合专业知识

Gemini 3光学系统优化了低电压和极低电压下的分辨率并实现了衬度增强，确保从1 kV到30 kV的所有工作条件下成像效果可达高分辨率且包含两个彼此协同运作的组件：Nano-twin物镜和全新的电子光学引擎Smart Autopilot。此外，它还具有高分辨率电子枪模式和可选的样品台减速技术（Tandem decel）。 分辨率模式——让您看到更多细节 通过两种模式可获得SEM图像的更多细节和更多探测信号。在高分辨率电子枪模式下，电子束色差降低，从而实现了更小的束斑；在样品台减速技术模式下，为样品施加减速电压，从而可进一步提高1 kV以下的图像分辨率并增强背散射探测器的检测效率。

Nano-twin物镜的优势：

✔ 在低电压和超低电压下达到亚纳米级分辨率，实现更出色的信号探测效率。 ✔ 与标准Gemini物镜相比，在低电压下的物镜像差降低了三倍，从而使样品上的磁场降低了三倍，约为1 mT。 ✔ 优化几何结构和静电场及磁场分布。 ✔ Inlens探测器在低电压成像条件下的信号得到增强。 ✔ 这些特性提供了在低于1 kV的条件下完成亚纳米级成像的能力，而无需将样品浸入电磁场中。

工作原理：

✔ Smart Autopilot优化了通过镜筒的电子轨迹，从而确保了在每个加速电压下尽可能高的分辨率。 ✔ 该自动功能实现了在整个放大倍率范围内（从1倍到2,000,000倍）的无缝对准自由切换，并将观察视野增加了10倍，从而可以在单幅图像中对13 cm的物体成像。 ✔ 32k×24k的图像存储分辨率与新的概览模式相结合，确保在超大观察视野内获得无拼接的像素密度。